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HYDROGEN/5L/10L/17L氫氣發(fā)生器是由超純水機(jī)制取二級(jí)水，并儲(chǔ)存至水箱備用的設(shè)備。當(dāng)氫氣發(fā)生器缺水時(shí)，它會(huì)自動(dòng)供給水。此外，多臺(tái)氫氣發(fā)生器還可以串聯(lián)使用，通過(guò)串聯(lián)控制線由一臺(tái)發(fā)生器控制其他發(fā)生器，實(shí)現(xiàn)產(chǎn)氣均勻分配。

CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器操作方便使用時(shí)只需打開(kāi)電源開(kāi)關(guān)即可產(chǎn)氫，使用后無(wú)需泄壓，直接關(guān)閉電源即可。可連續(xù)使用，也可間斷使用，產(chǎn)氫量穩(wěn)定不衰減。

安全和簡(jiǎn)便是300D高純氫氣發(fā)生器的主要特點(diǎn)，它替代了危險(xiǎn)的高壓氫氣鋼瓶，根據(jù)需要適時(shí)適量地產(chǎn)生氫氣，保持氫氣儲(chǔ)存體積和安全性。

功能方面，高壓氫氣發(fā)生器具有自動(dòng)水位控制功能，當(dāng)缺水狀態(tài)時(shí)，自動(dòng)停機(jī)，自動(dòng)補(bǔ)水功能，水量低于15%時(shí)，由外置水箱自動(dòng)補(bǔ)水，無(wú)需停機(jī)加水。有效保護(hù)電解池，延長(zhǎng)使用壽命。

CVD（Chemical Vapor Deposition）和MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition）是兩種常用的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，用于制備薄膜、涂層和納米材料等。

進(jìn)口實(shí)驗(yàn)室用氫氣發(fā)生器的工作原理主要基于水電解和化學(xué)反應(yīng)兩個(gè)方面。在水電解中，通過(guò)通電將水分解為氫氣和氧氣。這個(gè)過(guò)程涉及到電解質(zhì)的質(zhì)子交換膜，其中陽(yáng)極吸引氧離子，而陰極則吸引氫離子。當(dāng)通入電流時(shí)，氫離子被還原成氫氣，而在陽(yáng)極處，氧離子則被氧化成氧氣。